金属镍－碳化硅纳米复合电-镍棒-镍板网

金属镍－碳化硅纳米复合电

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    采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的Ｎｉ－ＳｉＣ纳米复合镀层，研究镍－碳化硅纳米复合电镀的工艺条件。结果表明，当阴极电流密度为２．５６Ａ／ｄｍ２，镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为２０ｇ／Ｌ，镀液的ｐＨ值为５．０，温度为５０ ℃时，镀层生长良好，均匀细致平滑，镀层的显微硬度可达到９５０ＨＶ０．２，远高于普通纯镍镀层的硬度。
    关键词：纳米复合电镀；镍－纳米碳化硅；显微硬度
    中图分类号：ＴＱ１５３             文献标识码：Ａ         文章编号：１００４－２４４Ｘ（２００７）０４－００５８－０３
     复合电镀技术是在电镀液中添加一种或数种不溶性的固体颗粒，使其与金属离子共沉积而形成具有特殊功能镀层的电镀技术。如添加颗粒为纳米级的颗粒，因纳米材料的独特结构而具有的小尺寸效应、量子尺寸效应、宏观量子隧道效应及表面和界面效应等，使之具有与传统材料不同的物理和化学性质［１］。纳米金刚石和纳米陶瓷粉具有很高的硬度和良好的耐高温性能，应用在复合电镀中能较大幅度地改善镀层的力学性能［２］。复合镀作为材料表面强化的一种新手段，因其镀层具有的高硬度、耐磨性、自润滑性、耐蚀性、特殊的装饰外观以及电接触、电催化等功能而倍受人们的关注［３］。
    纳米颗粒在镀层中的含量及存在状态是影响镀层性能的关键因素，如何使得纳米颗粒在镀层中均匀地分散是该技术的难点。本试验采用复合电镀技术在Ｑ２３５炭素结构钢板的表面上制备了高硬度、高耐磨的Ｎｉ－ＳｉＣ纳米复合镀层，研究电沉积的最佳工艺条件和影响因素，为实现工业化应用提供理论和实验依据。

责任编辑： 整理时间：2008-5-15 12:43:20

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